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2016年02月04日 14時46分

昭和電工、高純度三塩化ホウ素の製造拠点増強を決定

昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、電子材料製造用特殊ガスのひとつである高純度三塩化ホウ素(BCl3)の生産能力を従来の1.5倍に引き上げることを決定しました。
TOKYO, Feb 4, 2016 - (JCN Newswire) - 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、電子材料製造用特殊ガスのひとつである高純度三塩化ホウ素(BCl3)の生産能力を従来の1.5倍に引き上げることを決定しました。

高純度BCl3は、液晶パネルやシリコン半導体の製造工程において、アルミ配線の微細加工(エッチング)に使用される特殊ガスです。近年、アルミ配線を使用する有機EL(OLED)パネルや低温ポリシリコン(LTPS)液晶パネルへの投資が相次いでおり、今後も安定的な需要が予想されることから、今回、川崎事業所の製造設備の増強を決定し、本年3月に稼働を開始します。

当社の電子材料用高純度ガス事業は40年近い歴史を持ち、長年培ってきた精製・分析・品質管理技術において高い評価をいただいています。また当社はフッ素系・塩素系・臭素系・アンモニア系といった多様な高純度ガスを製造・販売する世界唯一の企業で、各製造工程に合わせたガスを提案します。

当社は、現在推進中の中期経営計画“Project 2020+”において、電子材料用高純度ガスを成長加速事業に位置づけております。当社は引き続き、拡大する世界の電子材料市場に迅速に対応し、同事業の強化・拡大を図ってまいります。

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概要:昭和電工株式会社

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