AEROPRES

2016年08月10日 11時35分

ラムリサーチ、業界初の低フッ素タングステンALDプロセスで次世代メモリへの道を開く

最先端の半導体製造装置のメーカであるラムリサーチ(Lam Research Corp.、NASDAQ:LRCX) は 本日、業界をリードするALTUS(R)シリーズの最新のラインアップとしてフッ素濃度の低いタングステン膜を生成できるアトミック・レイヤー・デポジション(atomic layer deposition:ALD)プロセスを発表致しました。
2015年07月16日 11時47分

ラムリサーチ、高アスペクト比絶縁膜エッチング向け Flex(TM) G シリーズを発表

半導体産業向けの革新的な製造装置やサービスの大手企業であるラムリサーチ(Lam Research Corp.、NASDAQ:LRCX、本社:米国カリフォルニア州フレモント、社長兼CEO:Martin Anstice)は本日、DRAMや3D NAND デバイスの更なる微細化を可能にする高アスペクト比(high-aspect-ratio;HAR)絶縁膜エッチング向けのFlex(TM) Gの発売を発表。
2015年07月14日 13時16分

ラムリサーチ、高生産性成膜装置VECTOR(R) ALD Oxideを発売

半導体産業向けの革新的な製造装置やサービスの大手企業であるラムリサーチ(Lam Research Corp.、NASDAQ:LRCX、本社:米国カリフォルニア州フレモント、社長兼CEO:Martin Anstice)は本日、Extremeのプラットフォームを使用した高生産性のVECTOR(R) ALD Oxideをリリースしたと発表しました。
2015年05月28日 13時56分

Lam Research Kiyo(R) F Seriesにより、先端メモリに欠かせない高精度コンダクタエッチングを実現

半導体業界向けの革新的なウエハー製造設備およびサービスの大手グローバルサプライヤのラムリサーチ社(NASDAQ: LRCX)は、3D NANDと先端DRAMの大量生産移行を可能にするKiyo(R) F Seriesコンダクタエッチングシステムを、本日発表しました。
2014年10月29日 15時18分

ラムリサーチ、Supplier Excellence Awardを発表

半導体業界向けの革新的なウェーハ製造設備およびサービスの大手グローバルプロバイダのLam Research Corp. (NASDAQ: LRCX)は、Supplier Excellence Awardで6社を表彰したことを、本日発表しました。
2014年10月22日 14時19分

ラムリサーチ、100個目のSyndion(R)エッチングモジュールを出荷

半導体業界向けの革新的なウエハー製造設備およびサービスの大手グローバルサプライヤのラムリサーチ株式会社(NASDAQ: LRCX)は、CMOS画像センサ(CIS)、インタポーザ、シリコン貫通電極(TSV)などのディープシリコンエッチングアプリケーション用Syndion(R)モジュールの100個目を出荷したことを、本日発表しました。
2014年07月09日 12時54分

ラムリサーチの新型エッチングおよび蒸着製品により、プロセス変動を制御して先進的な複数パターニングを実現

グローバル半導体業界向けの革新的なウエハー製造設備およびサービスの大手グローバルサプライヤのラムリサーチ社 (Lam Research Corp.)(NASDAQ: LRCX)は、先進パターニングに必要な厳正なプロセス制御と生産性を提供する2つの新製品を本日リリースしました。
2014年07月09日 12時50分

ラムリサーチの新製品が、3D NANDメモリデバイス構築に欠かせない機能を提供

半導体業界向けの革新的なウエハー製造設備およびサービスの大手グローバルサプライヤのラムリサーチ社 (Lam Research Corp.)(NASDAQ: LRCX)は、3D NAND生産用の最新薄膜蒸着およびプラズマエッチング製品を本日発表しました。
2014年07月09日 12時44分

ラムリサーチ、原子スケールプロセスの製品ラインを拡大

半導体業界向けの革新的なウエハー製造設備およびサービスの大手グローバルサプライヤのラムリサーチ社 (Lam Research Corp.)(NASDAQ: LRCX)は、原子層堆積(ALD)関連製品ラインに、原子層エッチング(ALE)を追加したことを、本日発表しました。

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